激光处理与电化学元件层沉积的整合
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激光处理与电化学元件层沉积的整合
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简介: 一种在设备中制造电化学元件的方法,此方法可包含:提供电化学元件基板;在此基板之上沉积元件层;原位施加电磁辐射至元件层以实现元件层的表面重构、再结晶及致密化中的一或更多者;重复此沉积及此施加直至达成所需元件层厚度为止。此外,施加可在沉积期间进行。一种薄膜电池可包含:基板;集电器,在此基板上;阴极层,在此集电器上;电解质层,在此阴极层上;及锂阳极层,在此电解质层上;其中LLZO电解质层具有结晶相,没有归因于LLZO电解质层中的裂缝的短路,且在电解质层与阴极层之间的介面处无高电阻夹层。
一种在设备中制造电化学元件的方法,此方法可包含:提供电化学元件基板;在此基板之上沉积元件层;原位施加电磁辐射至元件层以实现元件层的表面重构、再结晶及致密化中的一或更多者;重复此沉积及此施加直至达成所需元件层厚度为止。此外,施加可在沉积期间进行。一种薄膜电池可包含:基板;集电器,在此基板上;阴极层,在此集电器上;电解质层,在此阴极层上;及阳极层,在此电解质层上;其中LLZO电解质层具有结晶相,没有归因于LLZO电解质层中的裂缝的短路,且在电解质层与阴极层之间的介面处无高电阻夹层。
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