简介： 本文描述了用于在地下地层中的至少一部分处理区周围形成屏蔽层的方法。可将硫加入一个或多个位于地层中的处理区边界内的井孔中,所述处理区的渗透性至少为0.1达西。允许至少一些硫流向比硫的熔点低的地层部分使得硫在地层中固化以形成屏蔽层。