易制备的可用做微电子材料的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物
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易制备的可用做微电子材料的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物
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简介: 本发明涉及一种易制备的可用做微电子材料的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物,采用以下方法制备:(1)将吡唑或其衍生物溶解在反应溶剂中,在-78~0℃搅拌条件下加入烷基锂溶液中,吡唑或其衍生物与烷基锂的摩尔比为1:1~1.2;恢复到室温后继续搅拌反应,得到反应混合物;(2)将步骤(1)得到的反应混合物过滤,得到锂盐固体,将锂盐固体与甲苯混合,得到锂盐的甲苯溶液;(3)在-78~0℃按照锂盐与二氯化锗摩尔比2:1~1.1,将锂盐的甲苯溶液滴加到二氯化锗的甲苯溶液中,升温至室温;(4)将步骤(3)得到的反应混合物进行过滤,所得滤渣进行低温结晶,得到所述的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物。本发明合成方法简便、合成条件温和,具有良好的成膜性能。
本发明涉及一种易制备的可用做微电子材料的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物,采用以下方法制备:(1)将吡唑或其衍生物溶解在反应溶剂中,在-78~0℃搅拌条件下加入烷基溶液中,吡唑或其衍生物与烷基锂的摩尔比为1:1~1.2;恢复到室温后继续搅拌反应,得到反应混合物;(2)将步骤(1)得到的反应混合物过滤,得到锂盐固体,将锂盐固体与甲苯混合,得到锂盐的甲苯溶液;(3)在-78~0℃按照锂盐与二氯化锗摩尔比2:1~1.1,将锂盐的甲苯溶液滴加到二氯化锗的甲苯溶液中,升温至室温;(4)将步骤(3)得到的反应混合物进行过滤,所得滤渣进行低温结晶,得到所述的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物。本发明合成方法简便、合成条件温和,具有良好的成膜性能。
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