简介： 本发明提供了一种用于钽酸锂晶片表面清洗的清洗剂及其制备方法与用途，所述清洗剂包含纳米胶体粒子，还涉及所述纳米胶体粒子的制备方法及制备方法和用途，所述纳米胶体粒子包括纳米二氧化硅、阳离子型胶体稳定剂和二氧化硅吸附剂，所述清洗剂包括所述纳米胶体粒子、pH调节剂、表面活性剂、润湿剂和超纯水。所述纳米胶体粒子具有优异的稳定性、颗粒清洗和抗颗粒再沉积效果，且能杜绝破片的发生，特别适用于软脆材料表面尤其是钽酸锂晶片的清洗中，具有广阔的应用前景和工业化使用价值。