简介： 一种磁控溅射制备锂电池电极材料FeSe2薄膜的方法，其步骤是 : a、溅射准备：选取硅基片作为衬底、FeSe靶材作为溅射靶材，安装于磁控溅射室内，调整溅射靶材到衬底的距离为5-7cm；b、溅射沉积：将真空室抽真空至气压小于2×10-4Pa，再通入氩气，调节溅射气压、溅射功率、衬底温度，经过一定时间的溅射在硅基片上沉积薄膜；c、后退火处理：将沉积薄膜的硅基片和硒粒球一起封入气压小于1×10-2Pa的真空石英管中，然后将石英管置于管式炉中，在氩气保护下进行后退火处理，即得FeSe2薄膜。该方法可制备大面积的性能良好的FeSe2薄膜，制备过程简单，能耗小，成本低，效率高，可重复性好，适合于工业化生产。