超薄锂膜复合体及其制备方法
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超薄锂膜复合体及其制备方法
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简介: 本发明提供了一种超薄锂膜复合体及其制备方法。该复合体具有:承载层,和位于所述承载层的至少一个表面上的应力控制层和经由所述应力控制层与所述承载层复合在一起的超薄锂膜,所述超薄锂膜是具有孔径为5‑200微米的通孔的均匀薄膜,具有0.5‑20微米的均匀厚度,厚度公差在±0.5μm以内,所述超薄锂膜与所述承载层之间的粘结力为0.5‑15N·m‑1。
本发明提供了一种超薄膜复合体及其制备方法。该复合体具有:承载层,和位于所述承载层的至少一个表面上的应力控制层和经由所述应力控制层与所述承载层复合在一起的超薄锂膜,所述超薄锂膜是具有孔径为5‑200微米的通孔的均匀薄膜,具有0.5‑20微米的均匀厚度,厚度公差在±0.5μm以内,所述超薄锂膜与所述承载层之间的粘结力为0.5‑15N·m‑1。
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