简介： 本实用新型提供了一种电化学补锂装置，包括带形锂源和锂带辊压装置，所述带形锂源包括中部设置的金属锂带以及两侧用于支撑所述金属锂带的金属网，所述锂带辊压装置的两辊轮间距厚度小于带形锂源厚度，用于对金属锂带和金属网之间的接触进行补偿。本实用新型相比传统的镀锂方式，补锂效率更高，锂带可循环利用，且沉积量可通过传动速度控制，并能产生可调控的SEI膜。该方案能够解决补锂效率、锂带消耗经济性和锂沉积量控制的问题，并能对补锂后的负极片表面的SEI膜进行定向调控。