简介： 本发明涉及一种X荧光光谱镀层分析仪装置,包括光管、准直器、摄像头、激光调节装置、探测器以及样品测试平台,准直器固定在光管的法兰上,激光调节装置固定于光管的前端支脚上,摄像头设置于光管的一侧,探测器位于光管的另一侧,样品测试平台位于光管的光路上,准直器的底座上设有一第一镜片,第一镜片位于光管的光路上,摄像头底部的光路上设有一第二镜片。可精确定位样品在样品测试平台上的测试位置;整个装置结构紧凑;可实时观测样品的测试过程;样品和测试组件的相对高度位置可调节,避免了不必要的碰撞而造成的损失。其适用于环境保护、临床医学、农业、地质冶金、制药行业、石化等行业的X荧光光谱镀层分析之用。