量子点薄膜及其制备方法和应用
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量子点薄膜及其制备方法和应用
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简介: 本发明公开一种量子点薄膜及其制备方法和应用,其中,所述量子点薄膜包括介质以及分散在所述介质中的量子点,所述量子点包括量子点核,包覆所述量子点核的金属层,包覆所述金属层的半导体壳层,其中,所述金属层中的金属元素选自Zn、Hg、Al、Ga和In中的一种或多种。本发明解决了现有无镉量子点薄膜发光效率不高的问题。
本发明公开一种量子点薄膜及其制备方法和应用,其中,所述量子点薄膜包括介质以及分散在所述介质中的量子点,所述量子点包括量子点核,包覆所述量子点核的金属层,包覆所述金属层的半导体壳层,其中,所述金属层中的金属元素选自Zn、Hg、Al、Ga和In中的一种或多种。本发明解决了现有无镉量子点薄膜发光效率不高的问题。
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