简介:
本发明提供了一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统。该膜层处理方法包括步骤:S1,将墨水设置在基底上,形成待干燥膜层,其中,墨水包括第一溶剂和溶质;S3,在待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴,其中,小液滴为第二溶剂经过超声振动形成,第二溶剂对溶质的溶解性大于第一溶剂对溶质的溶解性,至少部分小液滴进入待干燥膜层。该膜层处理方法减缓了待干燥膜层的干燥成膜的速率,增加了溶剂的挥发均匀性,并且有效地提高了喷墨打印制作的膜层的均匀性,解决了现有技术中各个子像素的膜层中溶剂挥发速率不同或太快而导致薄膜的形貌不均匀的问题。
本发明提供了一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统。该膜层处理方法包括步骤:S1,将墨水设置在基底上,形成待干燥膜层,其中,墨水包括第一溶剂和溶质;S3,在待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴,其中,小液滴为第二溶剂经过超声振动形成,第二溶剂对溶质的溶解性大于第一溶剂对溶质的溶解性,至少部分小液滴进入待干燥膜层。该膜层处理方法减缓了待干燥膜层的干燥成膜的速率,增加了溶剂的挥发均匀性,并且有效地提高了喷墨打印制作的膜层的均匀性,解决了现有技术中各个子像素的膜层中溶剂挥发速率不同或太快而导致薄膜的形貌不均匀的问题。