简介： 本申请公开了一种流体处理装置及其制备方法。所述流体处理装置包括：具有第一流体通道的基体；彼此间隔的若干凸起部，所述凸起部沿横向在该基体的第一表面上连续延伸，其上部设有帽形结构，所述帽形结构的相背对的两侧部沿侧向外延，而相邻帽形结构之间形成有可供流体通过的开口部，其中至少两个凸起部分别设于第一流体通道的流体入口两侧，至少一凸起部直接从第一流体通道的流体入口上通过，从而使这些帽形结构、凸起部与基体之间配合形成第二流体通道，待处理的流体仅能通过第二流体通道进入第一流体通道。本申请的流体处理装置具有通量大、流阻小、能高效清除流体中微/纳米级颗粒等特点，可重复使用，使用寿命长，且适于规模化大批量生产。