简介:
本发明公开了一种大面积微纳图形化的方法和装置,该装置机架、工作台、承片台、衬底、压印材料、软模具、滚轮、紫外光光源、压印机构、真空管路、压力管路。基于该装置实现大面积微纳图形化的方法:(1)预处理;(2)压印和固化;(3)脱模;(4)后处理。该方法充分结合了平板型纳米压印和滚轮型纳米压印工艺的优势,通过滚轮、软模具、工作台和气路系统的密切配合,完成大面积压印和脱模操作。实现在超大尺寸、非平整刚性衬底(硬质基材或基板)、或易碎衬底上高效、低成本规模化制造大面积微纳米结构,解决了米级尺度超大尺寸刚性衬底的大面积微纳米图形化难题。具有结构和工艺简单、效率高、成本低、压印图形精度高和缺陷率低的特点。
本发明公开了一种大面积微纳图形化的方法和装置,该装置机架、工作台、承片台、衬底、压印材料、软模具、滚轮、紫外光光源、压印机构、真空管路、压力管路。基于该装置实现大面积微纳图形化的方法:(1)预处理;(2)压印和固化;(3)脱模;(4)后处理。该方法充分结合了平板型纳米压印和滚轮型纳米压印工艺的优势,通过滚轮、软模具、工作台和气路系统的密切配合,完成大面积压印和脱模操作。实现在超大尺寸、非平整刚性衬底(硬质基材或基板)、或易碎衬底上高效、低成本规模化制造大面积微纳米结构,解决了米级尺度超大尺寸刚性衬底的大面积微纳米图形化难题。具有结构和工艺简单、效率高、成本低、压印图形精度高和缺陷率低的特点。