简介： 一种用于形成图案化薄膜的原子层沉积工艺,包括提供基材,向基材上施加可光图案化的沉积抑制剂材料,其中所述沉积抑制剂材料包括有机硅氧烷化合物;图案化所述沉积抑制剂材料。所述薄膜基本上只沉积在基材上不具有沉积抑制剂材料的选区内。