简介： 本申请提供一种器件的制造方法，待处理衬底上可以形成透明导电膜层，透明导电膜层上形成有有机涂层，在栅线区域形成有贯穿有机涂层的刻蚀槽，形成覆盖有机涂层和刻蚀槽的导电材料层，利用激光刻蚀的方式，对有机涂层上的导电材料层进行刻蚀，以暴露有机涂层，利用有机溶剂溶解有机涂层，可以去除有机涂层和有机涂层上的导电材料层，形成位于栅线区域的导电栅线，在利用有机溶剂溶解有机涂层时，有机溶剂与未被导电材料层覆盖的有机涂层接触，脱模效率较高，提高栅线的制造效率。