通孔阳极氧化铝的制备方法
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通孔阳极氧化铝的制备方法
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简介:
本发明提供了一种通孔阳极氧化铝膜的制备方法。其特征在于制备的通孔阳极氧化铝膜具有圆孔的六方形晶胞组成的多孔结构,孔径范围为50~200nm,孔道垂直于膜表面,孔径分布均匀。其制备方法为将铝片基底进行预处理、电化学抛光后,将铝基底和聚酯片以及聚酯框热压成“三合一”结构,使其在氧化过程中,只有一面进行电化学氧化。这种制备方法大大简化了实验装置,简单易行。本膜可以用作超滤和微滤的分离膜以及制备功能材料、纳米材料的模板。
本发明提供了一种通孔阳极
氧化
铝
膜的制备方法。其特征在于制备的通孔阳极氧化铝膜具有圆孔的六方形晶胞组成的多孔结构,孔径范围为50~200nm,孔道垂直于膜表面,孔径分布均匀。其制备方法为将铝片基底进行预处理、
电化学
抛光后,将铝基底和聚酯片以及聚酯框热压成“三合一”结构,使其在氧化过程中,只有一面进行电化学氧化。这种制备方法大大简化了实验装置,简单易行。本膜可以用作超滤和微滤的分离膜以及制备
功能材料
、
纳米材料
的模板。
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