简介： 本发明涉及功能材料技术领域，特别涉及一种高性能薄膜吸气剂及其应用。本发明公开了一种薄膜吸气剂利用与其化学成分相同的吸气合金靶材制备得到，所述薄膜吸气剂包括主体元素，所述主体元素为Ti、Zr中的一种或两种；优选的，所述薄膜吸气剂还包括Sc、Y、V、Hf和Ta中的任意一种或者任何组合。该薄膜吸气剂具备高的吸气量，能够有效的维持MEMS芯片器件的高真空性能要求，达到信号的稳定性和高灵敏性。