聚吡咯荧光复合膜及其制备方法
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聚吡咯荧光复合膜及其制备方法
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简介: 本发明提供的一种聚吡咯荧光复合膜及其制备方法,由以下组分制成:N‑乙烯基吡咯、氧化剂、无机纳米氧化物、分散剂、聚乙烯醇、去离子水,其比例为0.1mol:(0.05~0.1)mol:(0.3~0.8)g:(6~12)g:(30~90)g:500g。本发明选取具有荧光性的可溶性N‑乙烯基吡咯,通过其与无机纳米氧化物复合,使其成为一种新型的聚吡咯荧光材料,再辅以聚乙烯醇,进一步提高了成膜性和可加工性。与传统聚吡咯功能材料相比,不仅克服了聚吡咯难溶融和难以加工成型的缺点,而且成为具有较好荧光性的新型功能材料。该聚吡咯荧光复合膜在荧光传感器、荧光探针、荧光分了温度计、光电材料等领域应用前景广泛。
本发明提供的一种聚吡咯荧光复合膜及其制备方法,由以下组分制成:N‑乙烯基吡咯、氧化剂、无机纳米氧化物、分散剂、聚乙烯醇、去离子水,其比例为0.1mol:(0.05~0.1)mol:(0.3~0.8)g:(6~12)g:(30~90)g:500g。本发明选取具有荧光性的可溶性N‑乙烯基吡咯,通过其与无机纳米氧化物复合,使其成为一种新型的聚吡咯荧光材料,再辅以聚乙烯醇,进一步提高了成膜性和可加工性。与传统聚吡咯功能材料相比,不仅克服了聚吡咯难溶融和难以加工成型的缺点,而且成为具有较好荧光性的新型功能材料。该聚吡咯荧光复合膜在荧光传感器、荧光探针、荧光分了温度计、光电材料等领域应用前景广泛。
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