简介:
一种纳米制造系统,包括原子粒子产生系统,原子粒子产生系统与气源连通,原子粒子产生系统与原子输运系统相连,原子输运系统与真空工作室相连,真空工作室内设置有纳米孔阵列掩模板,纳米孔阵列掩模板边缘上方为光学对准系统,下方为纳米级电子对准系统,纳米孔阵列掩模板下方设置有铺设有衬底材料;气源进入原子粒子产生系统获得能量与动量后产生原子粒子,原子粒子进入真空工作室,支架调节控制系统实现纳米孔阵列掩模板与衬底材料的相对运动,实现掩模功能与纳米图形加工;本发明具有控制精度高、加工尺度小、对衬底材料损伤小、电学影响小、系统结构相对简单、功能材料多样以及结构图形化方便的特点。
一种纳米制造系统,包括原子粒子产生系统,原子粒子产生系统与气源连通,原子粒子产生系统与原子输运系统相连,原子输运系统与真空工作室相连,真空工作室内设置有纳米孔阵列掩模板,纳米孔阵列掩模板边缘上方为光学对准系统,下方为纳米级电子对准系统,纳米孔阵列掩模板下方设置有铺设有衬底材料;气源进入原子粒子产生系统获得能量与动量后产生原子粒子,原子粒子进入真空工作室,支架调节控制系统实现纳米孔阵列掩模板与衬底材料的相对运动,实现掩模功能与纳米图形加工;本发明具有控制精度高、加工尺度小、对衬底材料损伤小、电学影响小、系统结构相对简单、
功能材料多样以及结构图形化方便的特点。