简介： 本发明属于光电子功能材料及器件技术领域, 具 体涉及一种用无依托超薄金刚石多晶薄膜制备的新一代X光 窗口及其制备工艺。本发明采用金刚石薄膜高密度(109－10/cm2)成核及优化生长工艺, 制备无依托超薄金刚石多晶薄膜, 再用化学方法刻蚀掉一部分硅基板, 形成直径为4－8毫米的完全无依托超薄金刚石X光窗口。该窗口在50－1550ev波段具有良好的透射率, 具有低吸收、高热导的优良特性及很高的抗辐射特性, 远优于传统的X光铍窗口, 可广泛应用于X光元素分析、深亚微米超大规模集成电路制版技术、生物医学、物理、化学等研究领域。