简介： 本发明公开了一种在Si衬底上制备高(100)取向BiFeO3薄膜的方法,属于功能材料制备技术领域。对Si衬底进行预处理;利用脉冲激光沉积方法,采用LaNiO3靶材,在上述衬底上制备高取向的LaNiO3薄膜;利用脉冲激光沉积方法,采用BiFeO3靶材,在LaNiO3薄膜上制备高取向的BiFeO3薄膜。本发明制备的产品兼容性好,膜晶粒大小均匀,排列致密,结晶度高,取向性好。