简介:
一种利用飞秒激光双光子制备导电材料的方法,涉及导电材料加工技术领域。其包括:a)步,使用的光源为蓝光飞秒激光,产生的方法为:将波长在750~850nm、脉冲宽度在60~100fs的飞秒激光,经倍频后形成蓝光375~425nm的飞秒光;或使用其它直接产生蓝光的飞秒激光作为加工的光源。b)步,把蓝光375~425nm的飞秒光经透镜聚焦到所要加工的非导电材料上;c)步,通过计算机控制样品位置或激光焦点照射在非导电材料内的位置,使激光与材料发生相互作用,发生双光子吸收,在曝光的位置形成导电的功能材料。本发明较之现有MEMS微型电子器件的加工方法,具有真三维、高分辨、导电性、一次性加工等特点。
一种利用飞秒激光双光子制备导电材料的方法,涉及导电材料加工技术领域。其包括:a)步,使用的光源为蓝光飞秒激光,产生的方法为:将波长在750~850nm、脉冲宽度在60~100fs的飞秒激光,经倍频后形成蓝光375~425nm的飞秒光;或使用其它直接产生蓝光的飞秒激光作为加工的光源。b)步,把蓝光375~425nm的飞秒光经透镜聚焦到所要加工的非导电材料上;c)步,通过计算机控制样品位置或激光焦点照射在非导电材料内的位置,使激光与材料发生相互作用,发生双光子吸收,在曝光的位置形成导电的
功能材料。本发明较之现有MEMS微型电子器件的加工方法,具有真三维、高分辨、导电性、一次性加工等特点。