简介： 一种化学气相沉积方法包括下列步骤：提供高真空室，并且在高真空室内：放置基板表面；平行于基板表面放置掩模，其中掩模包括一个或多个开口；调节基板表面和掩模之间的确定的尺寸的间隙；和利用视线传播使至少一种前体物种的多个化学前体束朝向掩模取向，所述多个化学前体束中的每一个都从独立的点状源发出，并且化学前体的分子穿过一个或多个掩模开口撞击到基板表面上以沉积在其上。至少一部分化学前体分子在分解温度下在基板表面上分解。该方法还包括调节基板表面的温度使其高于或等于化学前体分子分解温度，从而保持高于掩模温度，并且将掩模温度维持在分解温度以下，从而导致在基板表面上但不在掩模上的化学前体的分解和膜的生长；和利用加热装置加热基板表面。