简介： 本发明实施例提供了一种基于缓冲层进行深刻蚀的掩蔽方法，该方法包括：在衬底上形成功能材料层；在所述功能材料层上形成缓冲层；在所述缓冲层上涂敷一层抗蚀剂材料；对所述抗蚀剂材料进行平面曝光，在所述抗蚀剂材料上形成预设的微结构图形；将抗蚀剂材料上的微结构图形转移到所述缓冲层上；将缓冲层上的微结构图形深刻蚀到所述功能材料层上；去除抗蚀剂材料和缓冲层，获得具有微结构图形的功能材料。通过增加缓冲层保证对功能材料进行深刻蚀的质量。