简介： 一种通用的多种材料间全限制纳米线的自对准制备方法，该方法包括：在衬底上生长电热绝缘材料层及再淀积第一功能材料层；旋涂光刻胶作为牺牲层，光刻，形成条形的光刻胶掩模；通过干法刻蚀第一功能材料层至电热绝缘材料层的上表面，使第一功能材料层形成条形结构；淀积第二功能材料层；旋涂SU-8胶并电子束曝光，在条形的光刻胶掩模结构上部，制备出纳米量级的条形胶条，该条形胶条垂直并跨越条形光刻胶掩模；用该条形胶条做掩模，干法刻蚀第二功能材料层至电热绝缘材料层的表面；去除光刻胶掩模，暴露出第二功能材料层下方以外的第一功能材料层，使第二功能材料层下方形成一个悬空结构；干法刻蚀去除条形胶条下方以外的第一功能材料层；超声-剥离，完成制备。