简介： 本实用新型公开了用于半导体功能材料表面缺陷调控的等离子体反应装置，包括密封箱，所述密封箱的底部设置有底座，所述密封箱内腔的顶部和底部通过支撑杆分别设置有上部极板和下部极板，所述密封箱内腔的左侧转动连接有空心管，所述空心管的一端贯穿密封箱并转动连接有进气管，所述密封箱内设置有与空心管配合使用的辅助机构，所述密封箱的右侧连通有总管，所述总管的右侧连通有弯管，本实用新型利用辅助机构可使气体更快的充满密封箱的内部空间，同时转动的第一连通架，可进一步搅动气流，进一步加快了反应气体的流动速度，提高了气体的等离子反应效果，从而提高了对半导体功能材料表面缺陷的调控效果。