简介： 一种能够对离子的质量数加以显示、控制和 准确锁定的装置。其锁定精度在1-75a·m·u 范围内为±0.2a·m·u：在75-122a·m·u 范围内为±0.3a·m·u，从而能作到双电荷、 三电荷离子的注入锁定。将它安装在离子注入机 上，能够保证离子注入时掺杂的纯度、精密度和 重复精度，有效地提高了集成电路芯片的成品率。 该装置还可用于需要对离子质量数进行监控和锁 定的冶金、金属加工以及超导研究等方面。