简介： 本实用新型公开了一种用于地质薄片磨抛的装置，包括磨抛装置主体，所述磨抛装置主体的顶部固定连接有水平约束力着力点，且所述磨抛装置主体的底部开设有若干个载玻片限位槽。本实用新型所述的用于地质薄片磨抛的装置操作简单，安全性高，控制精确，受力均匀，样品厚度均匀，成品率高，通过该装置的研制，可以在不改变原有磨片及抛光设备的基础上，实现自动磨抛，且保证了压力及参数的统一，避免了人为因素的干扰，更有利于磨抛工艺的统一及标准化管理工作。