工作原理

MXFMS采用微分干涉相衬（DIC）光学系统，通过起偏镜、检偏镜及Normarski棱镜的组合，将入射光分解为两束振动方向垂直的偏振光。这两束光经物镜聚焦后，以微小角度照射样品表面，因样品表面微小高度差导致光程差，反射后重新合成时产生干涉现象。干涉结果使组织边缘呈现明暗相间的浮雕效果，显著提升相界、晶界及表面缺陷的可见性，尤其适用于未腐蚀样品的直接观察。

应用范围

该设备广泛应用于金属材料、半导体、陶瓷及复合材料的金相分析。在工业领域，可检测焊接件裂纹、铸造合金枝晶偏析、表面划痕等缺陷；在科研中，支持晶体生长研究、矿物鉴定及高温材料相变分析；教育领域则通过立体成像功能，帮助学生直观理解材料微观结构与性能的关系。

技术参数

光学系统：无限远色差校正光学系统，齐焦距离≤50mm

物镜：配备4X、10X、20X、40X、100X长工作距半复消色差物镜，100X物镜工作距离达0.2mm

观察筒：30°铰链式三目观察筒，瞳距调节范围54-75mm，分光比双目:三目=100:0或50:50

照明系统：15V150W卤素灯冷光源，光强连续可调，支持明场、暗场、偏光及DIC模式切换

载物台：B5大平板底座，粗微调同轴托架，粗调行程32mm，微调精度0.002mm

产品特点

高对比度成像：DIC技术使组织边缘呈现浮雕效果，无需腐蚀即可清晰显示表面缺陷及相界

长工作距设计：100X物镜工作距离达0.2mm，适配厚样品及复杂结构检测

多功能观察模式：集成明场、暗场、偏光及DIC功能，满足多样化分析需求

人性化操作：粗微调同轴设计、防下滑松紧调节装置及大视野目镜，提升操作舒适性与稳定性