工作原理

该仪器基于电子束与样品表面的相互作用机制，电子枪发射的高能电子束经电磁透镜聚焦后，以栅格扫描方式轰击样品表面。电子与样品原子碰撞产生二次电子、背散射电子及特征X射线等信号，二次电子探测器捕捉样品表面形貌信息，背散射电子探测器反映成分差异，EDS能谱仪则通过X射线能量分析实现元素定性定量检测。设备采用真空环境设计，避免电子散射干扰，确保信号稳定性。

应用范围

适用于金属、陶瓷、高分子材料及复合材料的表面形貌观察，如纳米颗粒粒径分布、涂层均匀性检测；半导体行业可分析晶圆缺陷、芯片封装结构；生物领域支持细胞微观结构成像与组织切片分析；工业检测中用于焊接界面、摩擦副及失效零件的失效模式识别。

技术参数

分辨率达1.0nm（15kV加速电压），放大倍数覆盖12倍至90万倍，加速电压范围0.1-30kV可调；配备五轴电动样品台，支持X/Y轴40mm移动、Z轴35mm聚焦及45°倾斜观察；EDS能谱仪检测元素范围覆盖4Be-94Pu，分析精度优于0.1wt%；真空系统抽真空时间≤2分钟，支持连续40小时LED照明作业。

产品特点

多模态成像：集成二次电子、背散射电子及能谱成像功能，一键切换观察模式，满足形貌-成分同步分析需求。

高精度定位：光栅尺反馈控制系统实现50nm步进精度，配合自动聚焦模块，确保复杂曲面样品的精准测量。

智能操作：搭载Windows系统控制软件，支持图像自动拼接、粒度统计及3D重构，数据可导出为BMP/TIFF格式，兼容主流分析软件。

便携设计：整机尺寸紧凑，配备可充电式LED光源，适用于实验室及现场快速检测场景。