简介： 本发明公开了一种适用于大尺寸KDP晶体超精密高效抛光装置与方法，所述的抛光装置包括支撑单元、精密水平运动滑台、工件抛光夹持单元、多点浓度连续可调控抛光液供给单元、底座、精密回转工作台、抛光垫修整单元、在线测量单元、抛光残液连续吸除回收单元和设备控制系统单元；所述的抛光方法包括粗抛光加工、精抛光加工、超精密抛光加工三个阶段，每个加工阶段采用不同种类的抛光液，通过控制系统可实现大尺寸KDP晶体的全口径粗、精、超精密多工序一体化抛光加工，具有显著的加工效率高、加工精度高等特色。本发明既能够实现大尺寸KDP晶体超精密抛光加工，又能提高加工效率，实现大尺寸KDP的高效、高质、近无损伤超精密加工。