简介： 本实用新型实施例提供了一种流体动压抛光装置。所述装置包括气囊抛光工具、精密测力台、精密位移台以及抛光液供给系统。所述气囊抛光工具使用前需经过精密修整；精密测力台与精密位移台配合实现气囊抛光工具与工件间的间隙精密控制；抛光时，抛光液注入抛光垫与工件的间隙后，气囊抛光工具高速旋转带动抛光液在气囊与工件间产生流体动压，进而实现间隙中的抛光颗粒以一定速度和压力对工件表面进行去除。本实用新型实施例提出的流体动压抛光装置可实现通过控制工艺参数(如间隙、转速、抛光颗粒大小)改变材料去除量，以满足工件不同工艺目的下的效率需求。所述装置在超精密光学元件上实现纳米级精度的无损伤加工方面具有重要的应用前景。