简介： 本发明公开了一种低氧铬靶及其制造方法，包括以下步骤：①将一定粒度的纯铬粉末进行氢气还原处理；②将还原后的纯铬粉末填充、装实至模具中，再将纯铬粉末连同模具置于充满液态介质的封闭高压容器内进行预压制处理，得到铬金属块体；③将铬金属块体置于热等静压设备中进行二次压制，得到铬靶坯；④将得到的铬靶坯进行退火热处理；⑤利用无损检测工艺筛选出合格的铬靶坯，再将合格的铬靶坯机工加成所需尺寸，即得到成品铬靶。通过本发明制造方法可得到低氧高纯、几近致密、晶粒细小且均匀的各向同性铬靶，能够满足光电行业的物理气相沉积技术需求，同时通过特种塑胶模具可重复利用，显著提升生产效率、降低铬靶材制造成本。