简介:
本发明属于MEMS器件加工监测技术领域,公开了一种DRIE工艺误差监测系统及方法。本发明结合测试数据库和有限元仿真数据库,可获得晶圆由于工艺误差引起的特征尺寸损耗、侧壁陡直度和倾斜度的实际误差值。本发明能够在不破坏晶圆的情况下,实现对DRIE工艺多参数晶圆级无损监测,可获取晶圆上局部或整体区域的具体参数,保证了监测数据的有效性和准确性,对于提高基于DRIE工艺的MEMS器件性能有重要意义。
本发明属于MEMS器件加工监测技术领域,公开了一种DRIE工艺误差监测系统及方法。本发明结合测试数据库和有限元仿真数据库,可获得晶圆由于工艺误差引起的特征尺寸损耗、侧壁陡直度和倾斜度的实际误差值。本发明能够在不破坏晶圆的情况下,实现对DRIE工艺多参数晶圆级无损监测,可获取晶圆上局部或整体区域的具体参数,保证了监测数据的有效性和准确性,对于提高基于DRIE工艺的MEMS器件性能有重要意义。