简介： 本发明公开了一种涂层残余应力的测试方法，涉及残余应力无损检测技术领域。本发明所述测试方法包括如下步骤：(1)利用X射线衍射法测定涂层中的物相及相应的晶体结构；(2)采用掠入射法获得衍射图谱；(3)采用Rietevield法进行全谱拟合，通过拟合得到的峰位偏差值计算所述涂层的残余应力。本发明所述测试方法简单，并且可以对复杂的应力状态进行分析，准确度较高。