简介： 本发明提供了一种多层薄膜调制周期及其均匀性的测量方法，是将氟化锂粉末压制成圆柱形靶块，表面加工成凹锥形，得氟化锂靶块；将氟化锂靶块安装至加速器的离子源的靶头处，引出负锂离子束流，充入氮气，使锂离子束在加速器管内经剥离气体碰撞剥离后得到二价的Li2+正离子束；再将待测量的多层薄膜放置在卢瑟福背散射测量靶室中的样品台上，用束流积分仪测量Li2+束的束流，形成RBS谱，进而得出多层膜的调制周期及均匀性信息。本方法用RBS测量薄膜的调制周期、元素分布和均匀性，其测量精度高，并且对样品没有损伤，是一种高精度、高品质的无损检测多层膜的方法。