简介:
本发明公开一种原位光学检测装置,应用于原子层沉积设备,包括光学测试系统和光学镜头配套组件,光学测试系统设置在原子层沉积设备的反应腔室外部,光学镜头配套组件包括镜头腔和设置在镜头腔内的光学镜头、转角组件和光学镜头延长管,转角组件两端分别连接光学镜头和光学镜头延长管;光学测试系统通过光学组件与光学镜头延长管连接,形成测试光路;镜头腔通过第一法兰组件固定在反应腔室的侧壁上。本发明可进行光学无损检测,并且可以在光学原位检测的辅佐下控制薄膜初始生长阶段的模式。同时,在原子层沉积系统中,可进一步的设计和开发新的人工改性半导体材料,为各种高质量、具有特异性能的二维薄膜的制备,提供有力的理论及实验基础。
本发明公开一种原位光学检测装置,应用于原子层沉积设备,包括光学测试系统和光学镜头配套组件,光学测试系统设置在原子层沉积设备的反应腔室外部,光学镜头配套组件包括镜头腔和设置在镜头腔内的光学镜头、转角组件和光学镜头延长管,转角组件两端分别连接光学镜头和光学镜头延长管;光学测试系统通过光学组件与光学镜头延长管连接,形成测试光路;镜头腔通过第一法兰组件固定在反应腔室的侧壁上。本发明可进行光学无损检测,并且可以在光学原位检测的辅佐下控制薄膜初始生长阶段的模式。同时,在原子层沉积系统中,可进一步的设计和开发新的人工改性
半导体材料,为各种高质量、具有特异性能的二维薄膜的制备,提供有力的理论及实验基础。