简介:
本发明提供一种检测电子封装器件内部应力的方法,在封装再布线层(RDL)工艺中制备规则形状的孔洞结构,然后通过X射线(X-Ray)检测封装器件内部规则形状孔洞结构的变形,进而分析得到内部应力。该方法属于无损检测,与封装工艺兼容,成本低,速度快,对封装器件功能无损害,且检测精度高,可被广泛适用。
本发明提供一种检测电子封装器件内部应力的方法,在封装再布线层(RDL)工艺中制备规则形状的孔洞结构,然后通过X射线(X-Ray)检测封装器件内部规则形状孔洞结构的变形,进而分析得到内部应力。该方法属于无损检测,与封装工艺兼容,成本低,速度快,对封装器件功能无损害,且检测精度高,可被广泛适用。