简介:
本发明公开了一种苹果冲击损伤面积的高光谱无损预测方法。本发明具体步骤包括:1)确定苹果样品的冲击损伤面积;2)提取苹果样品受损与未受损区域的平均光谱;3)光谱分析;4)建立苹果冲击损伤面积的预测模型。本发明能够快速、准确地实现对苹果冲击损伤面积的无损量化及预测,可为无损评估果实的机械损伤提供重要手段,也为高光谱成像技术应用于农产品领域提供借鉴。
本发明公开了一种苹果冲击损伤面积的高光谱无损预测方法。本发明具体步骤包括:1)确定苹果样品的冲击损伤面积;2)提取苹果样品受损与未受损区域的平均光谱;3)光谱分析;4)建立苹果冲击损伤面积的预测模型。本发明能够快速、准确地实现对苹果冲击损伤面积的无损量化及预测,可为无损评估果实的机械损伤提供重要手段,也为高光谱成像技术应用于农产品领域提供借鉴。