简介:
本发明公开一种用于微机电构件硅深腔的无损检测方法,将清洁后的硅深腔构件(1)作为模具,使用聚二甲基硅氧烷铸模材料(2)倒入硅深腔构件(1)内进行铸摸,脱模后即得到凸起的具有硅深腔构件内表面形貌特征的聚二甲基硅氧烷铸模模型(3),对聚二甲基硅氧烷铸模模型(3)外部形貌参数进行检测,然后进行反推运算即可得知硅深腔构件(1)内表面的形貌参数,检测过程简单方便,且无需破坏深腔构件(1),能够有效地降低检测成本。
本发明公开一种用于微机电构件硅深腔的无损检测方法,将清洁后的硅深腔构件(1)作为模具,使用聚二甲基硅氧烷铸模材料(2)倒入硅深腔构件(1)内进行铸摸,脱模后即得到凸起的具有硅深腔构件内表面形貌特征的聚二甲基硅氧烷铸模模型(3),对聚二甲基硅氧烷铸模模型(3)外部形貌参数进行检测,然后进行反推运算即可得知硅深腔构件(1)内表面的形貌参数,检测过程简单方便,且无需破坏深腔构件(1),能够有效地降低检测成本。