简介： 本发明涉及一种利用二硫代氨基甲酸钠(DTC‑TETA)改性黄铁矿抑制光腐蚀的制备方法，属于半导体和光化学领域。将黄铁矿粉碎，研磨，过100目筛，使用超纯水(体积1：10)冲洗5次，放置于‑20℃冰箱冷藏12h，然后使用真空冷冻干燥机干燥48h。称取0.2g黄铁矿样品至50mL烧杯中，摇动烧杯使样品均匀的平铺在烧杯底部。然后用1mL 5％的DTC‑TETA和样品混匀，在通风橱中风干20h，制成包膜黄铁矿样品，简称PY‑DT。本发明的改性黄铁矿抑制光腐蚀率高，在室温模拟太阳光条件下具有优于纯黄铁矿光腐蚀效果，光腐蚀抑制率可达到100％。