本发明公开了一种高产率、大尺寸氮化硼纳米片的制备方法。该方法基于增加层状材料的层间距可显著降低其层间作用力的原理,利用羟基基团与氢气间剧烈的反应热,实现六方氮化硼的低温热膨胀,随后借助水结冰时的体积膨胀即可将膨胀氮化硼有效剥离成氮化硼纳米片。所得氮化硼纳米片的平均横向尺寸可达1.62~1.78μm,产率可达39.3~43.7%,有效解决了现有方法制备的氮化硼纳米片产率低、尺寸小的难题。本发明所制得的氮化硼纳米片可广泛应用于电子封装材料、半导体器件、高温导热
复合材料及高温、氧化环境中工作的器件等方面。