简介： 本发明提供一种激光沉积设备，包括激光源、第一反射镜、第二反射镜、第一分光镜、第二分光镜、真空室、三个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台、用于沉积复合材料的基片以及三个光通开关；所述第一固定平台以及所述基片均设置于所述真空室内；第一固定平台分别与所述基片的预设区域相对，所述真空室设置有通光部，所述激光源与所述第一反射镜的出光方向呈预设夹角，所述第二反射镜、第一分光镜、第二分光镜均与所述第一反射镜相互平行。