简介： 一种一步式和室温处理工艺，利用超快脉冲激光烧蚀氧化钛或金属钛靶将金属氧化物，如结晶二氧化钛(TiO2)的纳米颗粒或纳米复合材料(纳米颗粒组合的)薄膜沉积在基片表面上。所述系统包括脉冲激光，它的脉冲持续时间范围从几飞秒至几十皮秒；光学设置，用于处理激光束，使得激光束以适当的平均能量密度和适当的能量密度分布聚焦在靶表面上；和真空腔，其中安装有靶和基片，并且在其中可适当调节背景气体和它们的压强。