简介： 本发明公开一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料，属于屏蔽材料技术领域。该钨硼层状材料由钨或钨合金、渗硼层组成，其中渗硼层的厚度为38~45μm，硼以硼化物的形式存在于渗硼层中，钨合金为Ni、Cu、Nb、Co、Mo、Cr或C元素与钨元素组成的合金，其中钨质量百分比为85~99%。相比传统的钨及其合金材料，这种特殊的层状结构使钨硼复合材料对X射线，γ射线和中子均具有较为显著的屏蔽效果，同时具有强度高、硬度高、导电性好、耐腐蚀性优良等特点。