简介： 描述一种用于在基质上形成图像的掩模。可将该掩模选择性地涂于基质上的辐射能敏感材料之上。施加在该复合材料上的光化辐射使未被掩模覆盖的那部分辐射能敏感材料发生化学变化。用适当的碱水溶液显影剂除去该掩模和此部分辐射能敏感材料。该掩模由碱水溶液可溶解或可分散的聚合物和遮光剂组成。