简介： 本发明公开了一种光束成像装置，包括：衬底层、图形层、钝化层和电极层，所述衬底层包括底层和表层，所述图形层位于所述衬底层的所述表层的上方，所述图形层包括底层和表层，所述底层为禁带宽度不小于2.3eV，所述表层为禁带宽度不小于2.3eV且折射率不高于所述底层；所述电极层位于所述图形层的所述表层的上方，所述电极层包括正电极和负电极，所述正电极和所述负电极分别与所述图形层的所述表层相接触；所述电极层为电阻率不大于5×10^‑7Ω·m且与所述图形层的接触势垒不大于1.5eV的具有低电阻率和低接触势垒的金属、合金或金属/氧化物复合材料。本发明具有如下优点：可以实现低成本、低传输损耗、高稳定性和高均匀性的成像过程。