简介:
一种三明治结构介电储能复合薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤1,在SrTiO3基底上,依次沉积SrAlO3、BaTiO3,采用旋涂工艺在BaTiO3上制备PVDF膜,采用磁控溅射的方法在PVDF膜上沉积Au作为底电极;步骤2,在Si基底上,采用流延工艺制备厚度为大约20μm的PVDF;步骤3,采用热压工艺将SrTiO3基底有Au面和Si基底PVDF面压合,将BaTiO3以上的膜全部转移到Si基底上;步骤4,在BaTiO3上采用旋涂工艺制备PVDF膜,再利用掩膜版,采用磁控溅射技术在PVDF上沉积Au作为顶电极,得到三明治结构复合薄膜。本发明采用的无机铁电材料为外延的BaTiO3薄膜,与传统的BaTiO3颗粒具有显著差异,此外,该工艺为进一步降低复合材料漏导电流提供了新思路。
一种三明治结构介电
储能复合薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤1,在SrTiO
3基底上,依次沉积SrAlO
3、BaTiO
3,采用旋涂工艺在BaTiO
3上制备PVDF膜,采用磁控溅射的方法在PVDF膜上沉积Au作为底电极;步骤2,在Si基底上,采用流延工艺制备厚度为大约20μm的PVDF;步骤3,采用热压工艺将SrTiO
3基底有Au面和Si基底PVDF面压合,将BaTiO
3以上的膜全部转移到Si基底上;步骤4,在BaTiO
3上采用旋涂工艺制备PVDF膜,再利用掩膜版,采用磁控溅射技术在PVDF上沉积Au作为顶电极,得到三明治结构复合薄膜。本发明采用的无机铁电材料为外延的BaTiO
3薄膜,与传统的BaTiO
3颗粒具有显著差异,此外,该工艺为进一步降低
复合材料漏导电流提供了新思路。