简介： 本发明公开了一种表面处理方法,其包括以下步骤:将一产品置于温度为10～30℃、湿度为20%～60%的环境下;提供一Γ射线源,该Γ射线源可射出Γ射线,该Γ射线源的射出能量为100～3000KEV;将Γ射线源对准产品的表面并使Γ射线射至该产品表面。