简介:
本发明提供一种激光沉积系统,包括激光源、一驱动机构、一第一反射镜、至少两个第二反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片;第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内,至少两个固定平台分别与所述基片的预设区域相对,真空室设置有通光部,第二反射镜与所述第一反射镜平行,激光源与第一反射镜的出光方向呈预设夹角;驱动机构与所述第一反射镜连接,以驱动第一反射镜沿着所述激光源的出光方向移动,所述第一反射镜用于将所述激光源发出的光反射至所述至少两个第二反射镜中的一个第二反射镜,进而使得第二反射镜将第一反射镜反射的激光通过所述通光部反射至对应的所述第一固定平台。
本发明提供一种激光沉积系统,包括激光源、一驱动机构、一第一反射镜、至少两个第二反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积
复合材料的基片;第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内,至少两个固定平台分别与所述基片的预设区域相对,真空室设置有通光部,第二反射镜与所述第一反射镜平行,激光源与第一反射镜的出光方向呈预设夹角;驱动机构与所述第一反射镜连接,以驱动第一反射镜沿着所述激光源的出光方向移动,所述第一反射镜用于将所述激光源发出的光反射至所述至少两个第二反射镜中的一个第二反射镜,进而使得第二反射镜将第一反射镜反射的激光通过所述通光部反射至对应的所述第一固定平台。