本发明涉及一种记忆存储器及其制备方法,它包括半导体基板、相隔设置于半导体基板上的两个电极、连接两个电极的薄膜层,所述的薄膜层由包覆有导电聚合物的
贵金属纳米粒子组成。为了制备该记忆存储器,包括以下步骤:(a)在半导体基板上旋涂一层光刻胶,并刻出空腔;(b)在空腔内沉积金属形成相隔的两个电极;(c)制备贵金属纳米粒子/导电聚合物
复合材料;(d)将复合材料用去离子水稀释后滴入所述相隔的两个电极之间。通过在两个电极间连接薄膜层,该薄膜层由包覆有导电聚合物的贵金属纳米粒子组成,使得记忆存储器结构简单、尺寸小、集成度高、成本低、高响应信号、高稳定性。